Zusammensetzungen

XRF und XRD für Elementar- und Phasenanalysen

Zwei häufig verwendete Techniken zur nicht-destruktiven Bestimmung der Zusammensetzung unbekannter Proben sind Röntgenfluoreszenz (XRF) und Röntgenbeugung (XRD). Die Röntgenfluoreszenz liefert Informationen über die Zusammensetzung der Elemente Bor (B) bis Uran (U) von parts-per-million Konzentrationen bis hin zu Prozentangaben (%). Mittels Fundamentalparameteralgorithmen (FP) kann XRF quantitative Analysen auch ohne Referenzstandards erbringen. Die Röntgenbeugung ermöglicht Identifikationen von Phasenzusammensetzungen und berücksichtigt die Abgrenzung zwischen hauptsächlich, geringfügig oder spurenhaft vorhandenen Verbindungen in einer Probe. XRD-Analysen schließen den Mineralstoffnamen einer Substanz, ihre chemische Formel, das Kristallsystem und die Nummer des Bezugsmusters der internationalen Datenbank ICDD mit ein. Quantitative Informationen können zudem auch mittels Rietveld-Analysen und ohne Standards erhalten werden.

Systems

  MiniFlex
Neues, kompaktes und universal einsetzbares XRD-System der 5. Generation für Phasenidentifizierung und -quantifizierung
    SmartLab
Hochentwickeltes und hochauflösendes XRD-System mit Guidance Expertenbetriebssoftware
    Ultima IV
Hochleistungsfähiges Mehrzweck-XRD-System für breitgefächerte Anwendungen von Forschung & Entwicklung bis zur Qualitätskontrolle
  RAPID II
XRD-System mit gewölbter Imaging-Plate (IP) und mit besonders großem Blendendurchmesser. Wahlweise mit Drehanode oder versiegelter Röhre als Röntgenquelle
    Supermini
Kompaktes, sequentielles WDXRF-Spektrometer für Elementaranalysen von Fluor (F) bis Uran (U) in Feststoffen, Flüssigkeiten und Pulvern
    ZSX Primus
Leistungsfähiges, sequentielles WDXRF-Spektrometer mit Mapping-Fähigkeit und herausragender Leistung für leichte Elemente
  ZSX Primus II
Leistungsfähiges, sequentielles WDXRF-Spektrometer mit Mapping-Fähigkeit und herausragender Leistung für leichte Elemente
    Simultix 15
Mehrkanaliges, simultanes WDXRF-Spektrometer mit hoher Durchsatzleistung für Elementaranalysen von Beryllium (Be) bis Uran (U)
    MFM65
System zur Prozessmessung mittels XRR, XRF, und XRD für beschichtete Halbleiterscheiben bis zu 300 mm