Halbleitermesstechnik

XRF, XRD und XRR für die Charakterisierung von Dünnschichten

Rigaku ist sogleich Wegbereiter als auch Weltmarktführer beim Entwickeln und Anfertigen von Röntgenmessinstrumenten. So können alle Herausforderungen bei der Herstellung von Halbleitern erfolgreich überwunden werden. Seit etwa 30 Jahren weltmarktführend in der Halbleiterindustrie, ermöglichen unsere Produkte praktisch alles, von der Prozesskontrolle bei der Materialherstellung bis über Forschung und Entwicklung von Dünnschichten und Materialcharakterisierung.

Systeme

  MFM310
Instrument zur Prozessmesstechnik von gemusterten Halbleiterscheiben (bis zu 300 mm) mittels XRR, XRF, und XRD
    TXRF-310
Analyse von Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm
    TXRF 3760
Analyse von Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF; Halbleiterscheiben bis zu 200 mm
  TXRF-V310
Analyse von Ultra-Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF und VPD; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm
    WaferX 310
Lineares, simultanes WDXRF Spektrometer für Messungen von metallbeschichteten Halbleiterscheiben; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm
    WDA-3650
Simultanes WDXRF Spektrometer für Messungen von metallbeschichteten Halbleiterscheiben; Halbleiterscheiben bis zu 200 mm
  SmartLab
Hochentwickeltes und hochauflösendes XRD-System mit Guidance Expertenbetriebssoftware
    Ultima IV
Hochleistungsfähiges Mehrzweck-XRD-System für breitgefächerte Anwendungen von Forschung & Entwicklung bis zur Qualitätskontrolle
    TTRAX III
Weltweit leistungsfähigstes θ/θ hochauflösendes Räntgendiffraktometer mit Diffraktionsarm auf gleicher Ebene