Halbleiter

Filmdicke und -zuammensetzung sowie Messungen von Wafer-Verunreinigungen

Rigaku ist Pionier und Weltmarktführer zugleich bei der Entwicklung und Herstellung von Röntgenmessinstrumenten für verschiedene Anforderungen in der Halbleiterproduktion. Mit über 25 Jahren Weltmarktführung in der Halbleiterindustrie, ermöglichen unsere Instrumente alles, von Kontrollmessungen in Produktionsprozessen bis über Forschung und Entwicklung von Dünnschichten und Materialcharakterisierung. Unsere XRF, XRD und XRR Messinstrumente analysieren entscheidende Prozessparameter, z.B. von Dünnschichten: Dicke, Zusammensetzung, Rauheit, Dichte, Porosität, und Kristallstruktur. Zusätzlich bieten wir Prozessinstrumente (TXRF und VPD-TXRF) für Messungen von Verunreinigungen. Mit den weltweiten Service- und Supportleistungen rund um die Uhr liefert Ihnen Rigaku die notwendigen Expertenlösungen, mit denen Sie Ihre Produktausbeuten erhöhen und Produktentwicklung verbessern können.

Systems: 
  Process FAB metrology
In-line XRF, XRD, und XRR Prozessmessungen
    Lab XRD / SAXS
Von Phasenanalysen bis über Bestimmungen der Dünnschichtdicke und Molekularstruktur
    Lab XRF
Dicke und elementare Zusammensetzung von Dünnschichten