NANOHUNTER II: GI-XRF Fähigkeit mit variablen Winkeln

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Für die Analysen von Dünnschichten kann die Röntgenfluoreszenz unter streifendem Einfallwinkel (GI-XRF) als Methodik genutzt werden, wobei Elemente auf und unterhalb der Oberfläche wahlweise angeregt werden können. Dabei können variable Winkel der Röntgenquelle genutzt werden. In diesem Beispiel wurde eine 25 nm dicke Nickel (Ni) Dünnschicht auf einem Glassubstratträger mit zwei unterschiedlichen Einfallwinkeln vermessen: 0.02° und 0.40°. Lediglich Ni wurde mit 0.02° GI Anregungsbedingungen (blaues Spektrum) stark angeregt. Jedoch wurden auch Elemente innerhalb des Glasträgers im 0.40° Winkelbereich (rotes Spektrum) angeregt, da Röntgenstrahlen für gewöhnlich auch in tiefere Schichten eindringen können.