半导体计量

用于薄膜表征的XRF、XRD和XRR

半导体计量理学公司是设计和制造基于X射线测量工具解决半导体制造业面临的难题方面的先驱和领导者。在半导体行业中大约30年的全球市场领导地位,我们的产品系列使从晶片加工控制计量到薄膜研发和材料表征可能。

仪器

MFM310   MFM310
用于图案化晶片的工程管理用XRR、XRF和XRD计量工具,最高可测量300mm的晶片
  TXRF-310   TXRF-310
使用TXRF测量微量元素的表面污染,最高可测300mm晶片
  TXRF 3760   TXRF 3760
使用TXRF测量微量元素的表面污染,最高可测200mm晶片
TXRF-V310   TXRF-V310
使用TXRF和VPD功能计量微量元素的表面污染,最高可测300mm晶片
  WaferX 310   WaferX 310
用于生产线的晶片金属薄膜计量的同时WDXRF光谱仪,最高可测300mm晶片
  WDA-3650   WDA-3650
晶片金属薄膜计量的同时WDXRF光谱仪,最高可测200mm晶片
SmartLab   SmartLab
通过系统指导软件(Guidance)运行的最新锐的高分辨率XRD仪器
  Ultima IV   Ultima IV
用于应用程序从研发到质量管理的高性能多功能的XRD仪器
  TTRAX III   TTRAX III
世界最大功率θ/θ高分辨率X射线衍射仪,特点为面内衍射机械臂