Pasar al contenido principal
NANOPIX
Características
  • Fuente de rayos X de punto de enfoque de alta potencia
  • OptiSAXS, óptica multicapa de alto rendimiento
  • Ranuras pinhole ClearPinhole de alto rendimiento
  • Detector HyPix-3000 de HPAD 2D de alto rendimiento
  • Resolución superior de ángulo pequeño (Qmin a 0.02 nm-1)

Instrumento de dispersión de rayos X por ángulo pequeño y ángulo amplio

SAXS/WAXS avanzados para análisis de nanoestructuras

El sistema de medición Rigaku NANOPIX SAXS/WAXS es un nuevo instrumento de dispersión de rayos X diseñado para el análisis de nanoestructuras. NANOPIX se puede utilizar tanto para las mediciones de la dispersión por ángulo pequeño (SAXS) como para las mediciones de dispersión por ángulo amplio (WAXS), lo que permite evaluar estructuras de múltiples escalas desde subnanómetro a nano-orden (0.1 nm a 100 nm). Alcanza el nivel más alto de resolución de ángulo pequeño (Qmin a 0.02 nm-1) para un instrumento SAXS de laboratorio

Dispersión de rayos X por ángulo pequeño (SAXS)

La dispersión de rayos X por ángulo pequeño (SAXS) es una técnica utilizada para estudiar estructuras de átomos o moléculas a escala nanométrica, así como su no uniformidad midiendo la dispersión difusa de áreas de densidad de electrones desiguales. Los experimentos SAXS se realizan en una amplia gama de campos, desde I+D hasta el control de calidad.

Mediciones SAXS/WAXS para muchas aplicaciones

El sistema de medición NANOPIX SAXS/WAXS es aplicable a una variedad de materiales, tales como: sólidos, líquidos, cristales líquidos o geles (con estructuras ordenadas y desordenadas). Sus diversas aplicaciones incluyen: análisis de distribución del tamaño de nanopartículas, análisis de la estructura de molécula de proteína tridimensional, identificación del ensamblaje o desensamblaje molecular y la investigación de materiales avanzados, como plásticos reforzados con fibra de carbono (CFRP)..

Diseño SAXS/WAXS de ultra alto rendimiento

El sistema de medición Rigaku NANOPIX SAXS/WAXS está configurado con: una fuente de rayos X de alto brillo y punto de enfoque de alta potencia, el espejo multicapa OptiSAXS de alto rendimiento, el ClearPinhole de alto rendimiento, ranuras pinhole de baja dispersión, y el detector de semiconductores 2D de alto rendimiento HyPix-3000, que permite detectar la difracción y dispersión incluso de materiales anisotrópicos. Opcionalmente, el detector HyPix-6000 también está disponible para mediciones de ángulo amplio, ofreciendo un área de detección ampliada mediante la combinación de dos módulos de detección. Como una de sus características, la distancia de la muestra al detector es variable dependiendo del tamaño de la estructura que varía desde la estructura atómica (microestructuras: 0.2 - 1 nm) hasta la estructura molecular (macroestructuras: 1 - 100 nm).

SAXS/WAXS con amplio rango experimental

NANOPIX permite mediciones en diversas condiciones de temperatura o humedad, experimentos con mediciones simultáneas DSC (calorimetría diferencial de barrido), así como mediciones en combinación con accesorios especiales u otros dispositivos externos. El control del entorno de la medición es indispensable para la investigación de las relaciones estructura-propiedad de los materiales funcionales.

Especificaciones
Nombre del producto NANOPIX
Técnica Dispersión de rayos X por ángulo pequeño y ángulo amplio
Ventajas SAXS/WAXS avanzados para análisis de nanoestructuras
Tecnología Instrumento de rayos X de alto flujo para SAXS/WAXS
Atributos principales Potente fuente de rayos X con óptica OptiSAXS y detector HPC
Opciones principales GI SAXS, DSC, control de temperatura y humedad
Computadora PC externa, sistema operativo MS Windows®, Guía NANOPIX, 2DP, SAXS 1D
Dimensiones principales Varía según la configuración
Masa (unidad central) Varía según la configuración
Requerimientos de energía Varía según la configuración