TXRF 3760
Características
- Facilidad de operación y resultados de análisis rápidos.
- Acepta obleas de 200 mm y más pequeñas.
- Diseño compacto, pequeño.
- Fuente de ánodo giratorio de alta potencia.
- Amplia gama de elementos analíticos (Na ~ U)
- Sensibilidad a elementos ligeros (para Na, Mg y Al)
- Aplicación a Si desnudo y a sustratos que no son de Si.
- Importe coordenadas de medición desde herramientas de inspección de defectos para el análisis de seguimiento.
Metrología de contaminación superficial
Mida la contaminación elemental en puntos discretos o con mapas completos de obleas
Especificaciones
Nombre del producto | TXRF 3760 |
Técnica | Fluorescencia de rayos X por reflexión total (TXRF) |
Ventajas | Análisis elemental rápido, de Na a U, para medir la contaminación de obleas en todos los procesos de fab |
Tecnología | Sistema TXRF de 3 haces con detector libre de nitrógeno líquido |
Atributos principales | Obleas de hasta 200 mm, sistema de etapa de muestra XYθ, sistema de transferencia robótica de obleas al vacío, software de comunicación ECS/GEM |
Opciones principales | El software de barrido TXRF permite el mapeo de la distribución de contaminantes sobre la superficie de la oblea para identificar "puntos difíciles". La capacidad ZEE-TXRF permite realizar mediciones con exclusión de borde cero |
Computadora | PC interna, sistema operativo MS Windows® |
Dimensiones principales | 1000 (ancho) x 1760 (alto) x 948 (profundo) mm |
Cuerpo | 100 kg (unidad central) |
Requerimientos de energía | 3Ø, 200 VAC 50/60 Hz, 100 A |