Espectrómetro secuencial de WDXRF

Mediciones del espesor y composición de películas en muestras grandes y pesadas, obleas, y discos de medios

AZX400

La técnica de fluorescencia de rayos X por longitud de onda dispersiva (WD) permite el análisis elemental (composición y el espesor de la película) con una resolución de máxima energía. El AZX 400 de Rigaku es un espectrómetro WDXRF secuencial diseñado específicamente para manejar muestras muy grandes y/o pesadas. El espectrómetro AZX 400 acepta muestras de hasta 400 mm de diámetro, 50mm de grosor, y 30kg de masa, que lo hace ideal para el análisis de blancos de pulverización, discos magnéticos o para la metrología de películas de obleas de Si de múltiples capas. El AZX 400 es un sistema ideal de I+D que ofrece la más amplia gama de flexibilidad analítica que cubre el rango de elementos de Be a U con tamaños de punto a 0.5 mm de diámetro para las mediciones espacialmente resueltas (uniformidad). La cámara de video opcional y el sistema de iluminación permite que el punto de medida específico sea visto por las aplicaciones QC o FA. El autocargador de oblea opcional permite el manejo de múltiples obleas desde un FOUP de 300mm o un videocasete abierto de 200mm.

AZX 400

Features

  • Análisis de muestras grandes de hasta 400 mm (diámetro), 50 mm (grosor), 30 kg (masa)
  • Sistema adaptador flexible de muestra con inserciones (fabricado a la medida)
  • Punto de medición de 30 mm - 0.5 mm de diámetro con selección automática de 5 pasos
  • Capacidad de mapeo o asignación, permite que se revise la uniformidad
  • Propósito general: capaz de analizar de Be a U con alta resolución y alta precisión de WDXRF
  • Amplia gama de composición (de ppm a decenas de por ciento) y el grosor (sub Å a mm)
  • El software guía al usuario a través de la medición y el análisis de la configuración
  • Cumple con los estándares de la industria: SEMI S2 y S8, y la marca CE
  • Tamaño reducido: un 50% de reducción de espacio comparado al modelo anterior

Especificaciones de ZSX 400

  • Tamaño muestral: 400 mm de diámetro máximo, espesor de 50 mm como máximo, masa máxima 30 kg.
  • Elementos aplicables: 4Be ~ 92U
  • Óptica: dispersión por longitud de onda
  • Tubo de rayos X: final de ventana tipo Rh objetivo 4 kW
  • Generador de alta tensión: inversor de tipo de alta frecuencia, grado máx.: 4 kW, 60 kV - 150 mA
  • Filtro de haz primario: intercambiador automático (6 filtros max), incluye Al, Ti, Cu, Zr
  • Diafragma: intercambiador automático de 30 mm, 20 mm, 10 mm, 1 mm, 0,5 mm de diámetro
  • Intercambiador de cristal: un máximo de 10 cristales
  • Detector: elemento pesado = SC, elemento ligero = F-PC

Accesorios del ZSX 400

  • Cámara de muestra con iluminación especial que permite visualizar el punto de análisis en la pantalla.
  • El rechazo de interferencia de difracción ofrece resultados precisos para substratos de mono-cristal.
  • Software de Parámetros Fundamentales para el análisis de películas (láminas) delgadas.

Aplicaciones de ZSX 400

  • Composición de destino sputtering
  • Películas de aislamiento: SiO2, BPSG, PSG, AsSG, Si₃N₄, SiOF, SiON, etc.
  • High-k y películas ferro-dieléctrico: PZT, BST, SBT, Ta₂O₅, HfSiOx
  • Películas de metal: Al-Cu-Si, W, TiW, Co, TiN, TaN, Ta-Al, Ir, Pt, Ru, Au, Ni, etc.
  • Películas de electrodos: dopado poli-Si (dopante: B, N, O, P, As), amorfo-Si, WSix, Pt, etc.
  • Otras películas dopadas (As, P), gas inerte atrapado (Ne, Ar, Kr, etc.), C (DLC)
  • Láminas delgadas ferroeléctricas, FRAM, MRAM, GMR, TMR; PCM, GST, GeTe
  • Composición de perla de soldadura: SnAg, SnAgCuNi
  • MEMS: composición y espesor de ZnO, AlN, PZT
  • Proceso del dispositivo SAW: composición y espesor de AlN, ZnO, ZnS, SiO2 (película piezoeléctrica); Al, AlCu, AlSc, AlTi (película de electrodo)
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