Sistema de difracción de Rayos X multipropósito

Sistema de difracción de Rayos X multipropósito

Ultima IV

Ultima IV representa el sistema estado del arte dentro de los sistemas multiuso de difracción de rayos X (DRX o XRD). Incorporando la tecnología patentada de la óptica transversal del haz (CBO) de Rigaku para instalarse y alinearse permanentemente, y permitir enfoque de geometrías y paralelos seleccionables por el usuario; el difractómetro de rayos X Ultima IV puede realizar muchas mediciones diferentes ... rápidamente...

Diseñado para un máximo rendimiento

Con un difractómetro de multiuso, el rendimiento se mide no sólo por la rapidez con que se realiza un experimento, sino también en lo rápido que usted puede cambiar entre los diferentes tipos de experimentos. Los experimentos individuales se han optimizado con accesorios como el sistema sensible detector de posición de alta velocidad D/teX Ultra ;pero la velocidad entre los experimentos se mejoró radicalmente con la combinación de la alineación automática y CBO.
Diseñado para la flexibilidad
Ultima IV es actualmente el único sistema de difracción de rayos X en el mercado que incorpora la alineación totalmente automática. Cuando se combina con la CBO y el brazo en el plano, la capacidad de alineamiento automático hace del difractómetro de rayos X Ultima IV, el sistema más flexible para múltiples aplicaciones.
Funcionalidad redefinida
En el sistema DRX Ultima IV DRX, la tecnología CBO elimina el tiempo dedicado a las geometrías de conmutación; permite a los usuarios diarios ejecutar ambas series de experimentos sin la necesidad de reconfigurar el sistema y reduce el desgaste y los posibles daños ópticos asociados con el proceso de conmutación recurrente. La CBO y la alineación automática se combinan para ofrecer lo último en funcionalidad para: la difracción microcristalina, la difracción de película delgada, la dispersión de ángulo pequeño, y la dispersión en plano.
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Features:

  • Alineación completa automatizada bajo control de computadora
  • Brazo de difracción opcional en plano para la medición en plano sin reconfiguración
  • Enfoque y geometrías de haz paralelas sin reconfiguración
  • Opcional sistema detector D/tex ultra de alta velocidad, sensible a posiciones

Especificaciones de Ultima IV

Generador de rayos X Potencia máxima nominal 3 kW
Voltaje nominal del tubo 20 - 60 kV
Corriente nominal del tubo 2 - 60 mA
Objetivo Cu (otros: opcional)
Tamaño del enfoque 0.4 x 12 mm (otros: opcional)
Goniómetro Modo de exploración θs/θd acoplado o θs, θd independiente
Radio del goniómetro 285 mm
Rango de medición 2θ -3 a 162° (máximo)
Tamaño mínimo de paso 0.0001°
Ópticas Divergencia de abertura Fixed or automatic variable
Dispersión de abertura Variable fija o automática
Recepción de abertura Variable fija o automática
Alineación de la óptica Alineación automática de la altura del tubo, goniómetro, ópticas y detector
Monocromador Monocromador de posición dual de grafito de haz difractada Cu (otros: opcional)
Detector Detector Contador de centelleo (otros: opcional)
Dimensiones (mm) Dimensiones (Alto x Ancho x Profundidad) 1600 x 1100 x 800 mm
Ejemplo de la altura 1050 mm

Ultima IV accessories

Accesorio de calentamiento para películas delgadas Anton Paar

Este sistema permite operaciones desde temperaturas ambiente a 900°C. Las atmósferas permitidas son: vacío, aire, gas inerte.

Accesorio para temperaturas medias y bajas

Etapa de temperatura variable automatizada para mediciones de difracción de rayos X en-sitio de materiales a temperaturas bajas y elevadas (-180°C to 350°C). La etapa puede ser operada en aire, gas, vacío, o bajo condiciones de refrigeración de nitrógeno líquido. La muestra se calienta radiantemente para reducir los gradientes térmicos dentro de la muestra. La traducción automatizada z dentro de la etapa, asegura el posicionamiento preciso de la muestra, incluso en presencia de la expansión térmica de la muestra.

Accesorio para temperaturas medias y bajas
Accesorio para Reactor X de alta temperatura para gases reactivos

Reactor X permite que las medidas sean realizadas bajo temperaturas altas (RT - 1000°C) en vacío, en gas inerte, gas reactivo, o en una mezcla de éstos. El calentamiento por infrarrojos permite un rápido calentamiento y enfriamiento de la muestra y el uso de una amplia variedad de soportes de muestra de modo que un soporte de muestra de material adecuado puede seleccionarse de acuerdo con la combinación de la muestra, el gas, y la temperatura aplicada.

Accesorio para Reactor X de alta temperatura para gases reactivos
Accesorio de alta temperatura HT 1500

Etapa de temperatura variable automatizada para mediciones de difracción de rayos X en-sitio de materiales a temperaturas ambiente y elevada (hasta 1500°C). La etapa puede ser operada en aire, gas, vacío, o bajo un gas inerte tal como helio o nitrógeno. La muestra se calienta radiantemente para reducir los gradientes térmicos dentro de la muestra. La traducción automatizada z dentro de la etapa, asegura el posicionamiento preciso de la muestra, incluso en presencia de la expansión térmica de la muestra.

Accesorio de alta temperatura HT 1500
Accesorio avanzado de película delgada

Accesorio multiuso para la alineación precisa de las muestras de película delgada. Su alineamiento automático total proporciona facilidad extrema en el posicionamiento de las muestras para la reflectividad de rayos X, plano de difracción, y análisis de orientación. Utiliza el diseño Rx/Ry para las opciones más flexibles de espacio recíproco de escaneo.

Accesorio avanzado de película delgada

PDXL es un software suite omnifuncional de análisis de difracción por polvo. El diseño modular, su motor avanzado y la GUI (interfaz gráfica de usuario) fácil de usar, han sido de la satisfacción de los usuarios experimentados y novatos desde el lanzamiento de PDXL en 2007.

PDXL ofrece diversas herramientas de análisis tales como la identificación automática de fase, el análisis cuantitativo, el análisis del tamaño de los cristalitos, red constante de refinamiento, análisis de Rietveld, determinación de la estructura ab initio, etc.

Método de parámetros fundamentales

La forma de pico en un patrón de difracción por polvo parece ser una función delta si se mide bajo condiciones ideales. En realidad, los cambios en la forma de pico se dan dependiendo de un número de condiciones de medición: distribución de longitud de onda de la fuente, los sistemas ópticos, las condiciones de hendidura, el tamaño de los cristalitos y la tensión, y así sucesivamente. Las formas de los picos obtenidos a partir de las mediciones realizadas en condiciones reales se describen utilizando una función empírica como una función de partición pseudo-Voigt, o una partición Pearson VII, la función que tiene un buen acuerdo con las formas de los picos obtenidos. El método parámetro fundamental (método PF) es un método para calcular la forma de pico por convolución de las formas causadas por todas las condiciones instrumentales y la muestra.

Fase de identificación usando COD

La Crystallography Open Database (COD) es una base de datos gratis y de dominio público de las estructuras cristalinas publicadas por la Unión Internacional de Cristalografía, la Sociedad Mineralógica de América y otras asociaciones. PDXL puede incorporar tanto ICDD/PDF-2 y COD para llevar a cabo la fase de identificación automática, adicionando la biblioteca DQO con más de 150,000 estructuras cristalinas a las ya capacidades substanciales de PDXL 2.
Asistente para el análisis de estructura cristalina ab initio
Recientemente, han habido muchos ejemplos publicados de análisis de estructura cristalina ab initio realizados en datos de difracción por polvo. Este desarrollo se atribuye principalmente a mejoras significativas en la velocidad del procesamiento de las PC y en la eficiencia de los algoritmos utilizados para la determinación de la estructura.

PDXL ha proporcionado hasta ahora todas las funciones requeridas para el análisis de estructura cristalina ab initio, tales como la determinación de la estructura de indexación, y el refinamiento de estructura por el método de Rietveld. Ahora, “el asistente para análisis de estructura” está disponible en PDXL para proporcionar apoyo y orientación a los usuarios que realizan el complicado procedimiento de análisis de estructura, en particular de los compuestos orgánicos. Este sistema asistente hace posible que incluso los principiantes puedan obtener éxitos de análisis.

Función de agrupamiento
La característica de agrupamiento PDXL puede agrupar los datos de varios análisis basados en similitud de los patrones de difracción por polvo y las posiciones de los picos, y muestra los datos agrupados en un árbol fácil de leer. Esto es particularmente efectivo cuando se trata de la clasificación y la detección de los datos de un gran número de exploraciones.

  • Análisis de búsqueda/coincidencia con PDF-2 y la base de datos Cristalografía Abierta (Open Cristalografía)
  • Análisis cuantitativo
  • Porcentaje (%) de cristalinidad
  • Tensión y tamaño del cristalito
  • Perfeccionamiento celular
  • Tensión residual
  • Indexación
  • Perfil completo de patrón de ajuste
  • La estructura de solución ab initio con asistente


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