試料水平型強力X線回折装置 RINT-TTR III

  • CBO(Cross Beam Optics)/クロスビームオプティクス搭載
    集中法、多層膜平行ビーム法、小角散乱、微小部、反射率、薄膜高分解能、In-Planeの各光学系を極めて簡単に切り換えることができる画期的な入射光学系です(集中法以外はオプション)。特許(日本):第3548556号
  • インプレーン測定対応(オプション)
    薄膜の表面構造評価に不可欠なインプレーン測定を可能とするインプレーンアームの搭載も可能にしました。
  • 高精度・高剛性試料水平型ゴニオメータの採用
    最小ステップ角度1/10000°の高剛性ゴニオメータを採用しました。試料は水平配置となるため、測定対象の状態を選びません。試料保持の必要がないので、固定材による汚染、歪の影響もありません。また、従来では不可能であった、In-Planeアーム付き薄膜光学系時のカウンタモノクロメータによる集中法測定が可能になりました。
  • 世界初、試料水平小角散乱測定を実現
    多層膜ミラーによる単色高輝度入射ビームにより、P/B比の高い小角散乱測定が可能です。精密な調整も自動化され、簡単にご使用いただけます。
  • X線発生装置は最大定格出力18kWのインバータ制御(高周波電源)の回転対陰極型X線発生装置を採用。封入管式に比べ、圧倒的高出力X線を実現。
  • フェイルセーフ機構付開閉式防X線カバーが標準装備されているので安全に使用できます。

RINT-UltimaIIIの多機能さはそのままに、X線発生源を回転対陰極型の強力X線にグレードアップした、リガクX線回折装置の最上位機種です。粉末・薄膜材料の一般的な測定から温湿度雰囲気を変えるIn-Situ測定、Low-k膜などの粒径分布のための小角測定、数nm程度の薄膜試料評価のインプレーン測定など、試料・測定手法・目的に応じて簡便に切り換えが可能です。





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