Espectrômetro de fluorescência de raio X dispersivo de comprimento de onda com tubo superior

WDXRF de alto desempenho para uma rápida análise elementar quantitativa

ZSX Primus III+

O Rigaku ZSX Primus III+ oferece uma determinação quantitativa rápida de elementos atômicos grandes e pequenos, desde o oxigênio (O) ao urânio (U), em uma ampla variedade de tipos de amostra - com padrões mínimos.

Óptica do tubo superior para uma maior confiabilidade

ZSX Primus III+ apresenta uma configuração inovadora além da óptica. Nunca mais haverá preocupações com um percurso de feixe contaminado ou com a inatividade devido à manutenção da câmara de amostras. A geometria além da óptica elimina as preocupações com limpeza e eleva o tempo de operação.

Posicionamento de alta precisão da amostra

O posicionamento de alta precisão da amostra garante que a distância entre a superfície da amostra e o tubo de raio X seja constante. Isso é importante para aplicações que exigem alta precisão como a análise de ligas. ZSX Primus III+ realiza uma análise de alta precisão usando uma configuração óptica única desenvolvida para reduzir erros causados por superfícies irregulares em amostras como esferas fundidas e pellets prensados.

Parâmetros fundamentais de SQX com um software de varredura EZ

A varredura EZ permite que os usuários analisem amostras desconhecidas sem uma configuração prévia. Esse recurso que economiza tempo exige apenas alguns cliques do mouse e um nome de amostra que será inserido. Combinado ao software de parâmetros fundamentais de SQX, fornece o os resultados de XRF mais exatos e rápidos possíveis. SQX é capaz de corrigir automaticamente todos os efeitos de matriz, incluindo as sobreposições de linhas. SQX também pode corrigir um efeito secundário de excitação por fotoelétrons (elementos leves e ultra-leves), variando atmosferas, impurezas e diferentes tamanhos de amostra. O aumento da exatidão é obtido ao usar uma biblioteca de correspondência e programas de análise de varredura perfeita.

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Features

  • Análise de elementos que vão do O ao U
  • A óptica do tubo superior diminui os problemas de contaminação
  • A pequena base usa um espaço menos valioso de laboratório
  • Posicionamento de alta precisão da amostra
  • A óptica especial reduz os erros causados pelas superfícies curvas da amostra
  • Ferramentas de software para um controle estatístico de processo (SPC)
  • As taxas de evacuação e de vazamento de vácuo podem ser otimizadas para a produtividade

ZSX Primus III+ specifications

General
  Elemental coverage ₈O through ₉₂U
  Optics Wavelength dispersive, sequential, tube above
X-ray generator
  X-ray tube End window, Rh-anode, 3kW, 60kV
  HV power supply High frequency inverter, ultra-high stability
  Cooling Internal water-to-water heat exchanger
Spectrometer
  Sample changer 48 positions standard
  Maximum sample size 51 mm (diameter) by 30 mm (high)
  Sample rotation speed 30 rpm
  Primary X-ray filters Al25, Al125, Ni40 and Ni400
  Beam collimators 4 auto-selectable diameters: 35, 30, 20 and 10 mm
  Divergence slit 3 auto-selectable: standard, high, and coarse (optional) resolutions
  Receiving slit For SC and for F-PC detectors
  Goniometer θ – 2θ independent drive mechanism
  Angular range SC: 5-118°, F-PC: 13-148°
  Angular reproducibility Ultra-high precision
  Continuous scan 0.1 - 240°/min
  Crystal changer 10 crystals, automatic mechanism
  Vacuum system High-speed system
Detector systems
  Heavy element detector Scintillation counter (SC)
  Light element detector Flow proportional counter (F-PC)
  Attenuator In-out automatic exchanger (1/10)

ZSX Primus III+ software

Overview:

  • Qualitative analysis:
    • Automatic peak identification
    • Smoothing, background subtraction
  • Quantitative analysis:
    • Matrix correction: Lachance-Traill, DeJohngh, JIS, etc.
    • Linear, quadratic and cubic regression, multiple line
    • Fundamental parameter method
  • EZ scan (qualitative)
  • Application template
  • Analysis area automatic selection (mask size detection)
  • Peak deconvolution (function and standard profile)
  • Background fitting (multi-point function fitting, area designation)
  • Fixed precision analysis
  • Help function
  • E-mail forwarding function
  • Universal standard sample
  • Analysis simulation program (analysis depth evaluation, etc.)

Optional:

  • SQX program
    • EZ scan (SQX)
    • Fixed angle measurement
    • Thin-film analysis
    • Theoretical overlap correction
    • Drift correction library
    • Photoelectron FP method
    • Sample film correction
      • Impurity correction
      • Matching library
      • SQX scatter FP method
      • Material judgment
  • Quantitative scatter FP method
  • Quantitative FP theoretical overlap correction
  • Fusion disk correction (flux evaporation)
  • Charge correction
  • Program operation
    • Time preset analysis
    • Energy saving
    • Auto power off
  • Remote control function (VCP)