Малоугловое рентгеновское рассеяние (SAXS) для анализа наноматериалов

Использование запатентованных многослойных рентгеновских зеркал (СВО) для формирования параллельного пучка в дополнение к методам рассеяния в большеугловой области и дифракционным методам позволяет проводить малоугловые исследования с точностью вплоть до 0.1 единицы q (65 нм). Жидкие и твердые образцы могут быть измерены в широком диапазоне геометрий малоуглового рентгеновского рассеяния, включая геометрию скользящего падения малоуглового рентгеновского рассеяния (GISAXS).

Методом малоуглового рассеяния исследуются:

  • Макромолекулярная структура и ориентация полимеров
  • Распределение размера наночастиц в растворах
  • Распределение размера частиц и пор наноматериалов
  • Морфология и ориентация молекул в нанокомпозитах

Проходящее малоугловое рассеяние от наночастиц взвешенных в растворе является мощным методом, используемым для определения размеров и формы частиц. Требования к точности определения формы и размера важны и постоянно возрастают во всем мире при исследовании наноматериалов. В дифрактометре Ultima IV благодаря СВО оптике реализован переход от обычной геометрии съемки в широком диапазоне углов, используемой в традиционной дифрактометрии, к геометрии сверхмалых углов, который осуществляется буквально одним касанием к коммутирующей пластине.

Residual Stress

На рисунке представлены экспериментальные и рассчитанные с помощью пакета программ обработки данных Nano-Solver кривые малоуглового рассеяния частиц с бимодальным распределением по размерам. Как видно из рисунка, имеется очень хорошее соответствие между экспериментальными и расчетными данными, подтверждающее правильность предложенной модели.

Residual Stress

В дополнение к методу съемки на просвет дистанционно-управляемая и автоматически юстируемая платформа образца может быть установлена в положение для проведения измерений в режиме рефлектометра. На рисунке представлена кривая зеркального отражения слоя Ni толщиной 10 нм с внедренными в него атомами C на Si подложке. На экспериментальную кривую рассеяния наложена расчетная кривая, полученная используя программное обеспечение NanoSolver. Как видно из рисунка, имеет место хорошее соответствие между экспериментальными и расчетными данными, что позволяет сделать вывод о разбросе частиц Ni по размерам в широком диапазоне от 2 до 10 нм.

Residual Stress

Ultima IV представляет собой передовой многоцелевой рентгеновский дифрактометр. Внедрение CBO оптики, запатентованной компанией, на постоянной основе, надолго выровненной и с выбираемыми пользователем геометриями (параллельнного пучка или фокусирующей) - все это позволяет выполнять множество различных измерений ... быстро. Read more...