聚焦梯度多层膜单色器

用于TXRF的所有外部反射角中通过样品的强度最大化

Max-Flux® TXRF optic

1990年代初期由理学创新技术推出的梯度多层膜单色器为全反射X射线荧光光谱仪提供高强度和低背景。Max-Flux®光学器件使用梯度多层膜,保证相同X射线能量从沿着抛物线光学器件表面的各个点衍射出来。理学的Osmic®涂层技术提供了小于0.5%的d间距变化的结果。这种高精度意味着提供给你的实验更大的灵活性。

光学的精度也是良好性能的关键。使用专有技术,标准Max-Flux光学器件在10角秒内制作理想曲线。当需要最佳性能时,理学提供新型Arc)Sec®技术来获得≤ 4角秒的光学精度。

Features

  • 调整简单
  • In增加样品强度
  • 大大降低背景,特别是从X射线源发出的无用光线
  • 完美控制X射线光束图谱和发散角
  • 改善数据收集
  • 可用于Cu、Mo、Co、Ag、Au、Cr、W Kα, W Kβ和其他X射线能量


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