TXRF-V310 应用

TXRF-V310 应用

  • 集成VPD的TXRF进行从Na到U的痕量元素分析
    • 作为一个在线杂质监视器适用
    • 可以检测在 107 原子/cm² 级别的过渡金属(500秒测量)
  • 测定杂质元素的空间分布(晶圆描画)
    • 45分钟内测量一个300mm晶圆表面上的杂质
    • 通过单一元素分布图和重叠元素视图一目了然杂质分布
    • 计算整个晶圆表面的平均杂质
    • 通过整个晶圆表面的筛查可自动进行高精度测量发现杂质点
  • 特定点的例行分析:指定坐标的Direct-TXRF
    • 通过避免衍射干涉在一个晶圆的所有点处正确报告杂质级别
    • 可以检测在109原子/cm² 级别的过渡金属(500秒测量)
    • 与封闭X射线管源相比,使用一个大功率旋转阳极X射线源可以获得三倍的吞吐能力
    • 无缝测量轻元素、过渡金属和重金属,无需多个X射线管间的切换

制造工厂全自动高灵敏度分析

  • 清洁过程中分析108 原子/cm² 级别的Ca
  • 清洁过程中分析1010 原子/cm² 级别的Na和Al
  • 传播过程中分析108 原子/cm² 级别的过渡金属
  • 在氧化的后清洁过程中分析108 原子/cm² 级别的Ni杂质

高吞吐能力下对300mm晶圆表面全部描画

  • LPCVD中全部表面描画(1010 原子/cm² 级别)
  • 离子注入中杂质的全部表面描画
  • RIE过程中的全部描画(1010 原子/cm² 级别)
  • 制造工具的转移晶圆的全部描画(1010 原子/cm²级别)