氧化镁单晶基板材料的纹理

单晶MgO作为基板材料广泛应用于高质量氧化物薄膜的沉积,其中包括半导体、超导、介质、强磁性和强磁性氧化物。氧化物薄膜质量与MgO基板质量关联密切。通常情况下,使用X射线摇摆曲线的峰宽作为一个晶体质量的定量指标,测量面外晶格的倾斜扩大。面内晶格的弯曲扩大信息在摇摆曲线测量中消失。

另一方面,由于测量过程中同时涉及晶体的倾斜和旋转(弯曲),极图测量在一个单一测量中捕获到晶体的倾斜和弯曲扩大。结果在一个二维图中显示。SmartLab多功能衍射仪根据Guidance数据采集软件,使极图测量从光学调整、样品调整到数据采集完全自动化。

下图中,是使用(111)极图分析市面MgO基板的纹理图。显然,晶体立方,显示了很好的四重对称性。沿着径向(倾斜)和环向(弯曲)的(111)峰宽约为5°。这意味着晶体并不完美。再面外和面内方向有一个5°马赛克性。

commercially available MgO substrate is analyzed

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