同时分析膜厚度、密度和表面粗糙度

分子排布和薄膜中分子的填充密度与大样品不同。其结果是薄膜厚度与基于大样品属性的预期值不同。使用总X射线反射技术可以非破坏性且同时测量薄膜样品的密度、厚度和表面粗糙度。如果样品表面平滑(反射要求),可以测来能够绝对膜厚度,即使是使用偏振也无法计算的金属薄膜。下图通过理学SmartLab多功能衍射仪收集,显示了在氮化硅(Si3N4)薄膜上执行的反射测量的结果。基于衍射图拟合分析,薄膜厚度为99.8nm,薄膜密度为2.88 g/cm3,表面粗糙度为0.65nm。


reflectivity measurement performed on a film of silicon nitride film


SmartLab是当下最新型的高分辨率衍射仪。它的最新特点是SmartLab Guidance软件。此软件向用户提供智能界面,指导用户完成每个实验中的复杂问题。使用SmartLab Guidance软件就像有一位专家在您的身边指导完成实验。 Read more about SmartLab...