纳米多孔硅薄膜中掠射小角X射线散射(GISAXS)分析孔径分布

纳米多孔硅薄膜在不同领域具有潜在的银应用,包括生物医学科学和纳米电子学。证据表明孔径尺寸和孔径尺寸分布对薄膜的属性和性能具有重大影响。因此,正确快速地鉴定平均孔径尺寸及孔径尺寸分布是纳米多孔硅薄膜材料的研究和开发过程的重要一步。

S小角X射线散射(SAXS)长期用于粒子或孔径尺寸分析。然而由于硅薄膜在一个厚厚的基板上形成,无法应用传统的透射SAXS法。为了解决该问题,GISAXS的入射角被控制在几十分之一度。为了正确测量GISAXS,必须正确调整样品表面,并且设置正确的偏移角以防止镜面反射强度进入探测器。SmartLab多功能衍射仪和它专有的Guidance软件可以自动完成此项困难的调整。

如下图所示,显示了一个多孔硅薄膜的GISAXS曲线,该薄膜沉积在一个硅基板上,结合使用理学的Nanosolver软件分析的结果通过SmartLab进行测量。使用一个球形或粒子模型的孔拟合曲线与测量的曲线完全吻合。根据该分析证明了这个薄膜有一个5.06nm的平均孔径和一个仅为21.5%的小型分散。

GISAXS curve of a porous silica film deposited on a silicon substrate



SmartLab是当下最新型的高分辨率衍射仪。它的最新特点是SmartLab Guidance软件。此软件向用户提供智能界面,指导用户完成每个实验中的复杂问题。使用SmartLab Guidance软件就像有一位专家在您的身边指导完成实验。 Read more about SmartLab...