Halbleitermesstechnik

XRF, XRD und XRR für die Charakterisierung von Dünnschichten

Rigaku ist sogleich Wegbereiter als auch Weltmarktführer beim Entwickeln und Anfertigen von Röntgenmessinstrumenten. So können alle Herausforderungen bei der Herstellung von Halbleitern erfolgreich überwunden werden. Seit etwa 30 Jahren weltmarktführend in der Halbleiterindustrie, ermöglichen unsere Produkte praktisch alles, von der Prozesskontrolle bei der Materialherstellung bis über Forschung und Entwicklung von Dünnschichten und Materialcharakterisierung.

Systeme

		MFM310 Instrument zur Prozessmesstechnik von gemusterten Halbleiterscheiben (bis zu 300 mm) mittels XRR, XRF, und XRD				TXRF-310 Analyse von Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm				TXRF 3760 Analyse von Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF; Halbleiterscheiben bis zu 200 mm
		TXRF-V310 Analyse von Ultra-Spurenelementen in Oberflächenverunreinigungen mittlels TXRF und VPD; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm				WaferX 310 Lineares, simultanes WDXRF Spektrometer für Messungen von metallbeschichteten Halbleiterscheiben; Halbleiterscheiben bis zu 300 mm				WDA-3650 Simultanes WDXRF Spektrometer für Messungen von metallbeschichteten Halbleiterscheiben; Halbleiterscheiben bis zu 200 mm
		SmartLab Hochentwickeltes und hochauflösendes XRD-System mit Guidance Expertenbetriebssoftware				Ultima IV Hochleistungsfähiges Mehrzweck-XRD-System für breitgefächerte Anwendungen von Forschung & Entwicklung bis zur Qualitätskontrolle				TTRAX III Weltweit leistungsfähigstes θ/θ hochauflösendes Räntgendiffraktometer mit Diffraktionsarm auf gleicher Ebene