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Semiconductor metrology products



TXRF tools

Metrología de contaminación superficial elemental traza por TXRF; obleas de hasta 200 mm

TXRF 3800e  product image

Metrología de contaminación superficial elemental traza por TXRF; obleas de hasta 200 mm

TXRF 3760  product image

Metrología de contaminación de la superficie elemental traza por TXRF; obleas de hasta 300 mm

TXRF 310Fab  product image

Metrología de contaminación de superficie elemental ultratrazas por TXRF con capacidad VPD; obleas de hasta 300 mm

TXRF-V310  product image


XRF tools

Espectrómetro WDXRF simultáneo en línea para la metrología de película de metal de obleas; obleas de hasta 300 mm.

WaferX 310   product image

Espectrómetro WDXRF simultáneo para la metrología de obleas de película de metal; obleas de hasta 200 mm

WDA-3650  product image

Espectrómetro secuencial WDXRF para el análisis elemental y la metrología de película delgada de muestras grandes y/o pesadas

AZX 400 wavelength dispersive XRF for large samples


Combo tools

Herramienta de metrología de procesos XRR, XRF y XRD para obleas con y sin patrones; obleas de hasta 300 mm.

MFM310   product image

XRF y herramienta de metrología óptica para obleas planas y obleas con patrones; obleas de hasta 300 mm

Onyx Hybrid XRF and Optical metrology FAB tool


Rigaku is a pioneer and world leader in designing and manufacturing X-ray based measurement tools to solve semiconductor manufacturing challenges. With over 25 years of global market leadership in the semiconductor industry, our families of products enable everything from in-fab process control metrology to R&D for thin film and materials characterization. Rigaku specializes in making XRF, XRD and XRR metrology tools to measure critical process parameters like thin film: thickness, composition, roughness, density, porosity, and crystal structure. In addition, we offer process TXRF and VPD-TXRF tools for contamination measurement. With global 24/7 service and support, Rigaku delivers cutting edge solutions for yield enhancement and process development.