TXRF 3800e
Características
- Facilidad de operación y resultados de análisis rápidos.
- Acepta obleas de 200 mm y más pequeñas.
- Bajo costo de propiedad
- Diseño compacto, pequeño.
- Fuente de tubo de rayos X sellada.
- Amplia gama de elementos analíticos (S ~ U)
- Aplicación a Si desnudo y a sustratos que no son de Si.
- Capacidad de medición de exclusión de borde cero (ZEE-TXRF)
- Importe coordenadas de medición desde herramientas de inspección de defectos para el análisis de seguimiento.
Metrología de contaminación superficial
Mida la contaminación elemental en puntos discretos o con mapas completos de obleas
Especificaciones
Nombre del producto | TXRF 3800e |
Técnica | Fluorescencia de rayos X por reflexión total (TXRF) |
Ventajas | Análisis elemental rápido, de S a U, para medir la contaminación de obleas en todos los procesos de fab |
Tecnología | Sistema TXRF de doble haz con detector libre de nitrógeno líquido |
Atributos principales | Obleas de hasta 200 mm, sistema de etapa de muestra XYθ, sistema de transferencia robótica de obleas al vacío |
Opciones principales | Software de comunicación SECS/GEM. El software Sweeping TXRF permite el mapeo de la distribución de contaminantes sobre la superficie de la oblea para identificar "puntos difíciles" |
Computadora | PC interna, sistema operativo MS Windows® |
Dimensiones principales | 1000 (ancho) x 1760 (alto) x 948 (profundo) mm |
Cuerpo | 100 kg (unidad central) |
Requerimientos de energía | 3Ø, 200 VAC 50/60 Hz, 100 A |