El exclusivo espectrómetro de fluorescencia de rayos X dispersivos de longitud de onda, el ZSX Primus 400 de Rigaku, fue diseñado específicamente para manejar muestras muy grandes y/o pesadas. Aceptando muestras de hasta 400 mm de diámetro, 50 mm de espesor y 30 kg de masa, este sistema es ideal para analizar objetivos de pulverización catódica, discos magnéticos o para la metrología de película multicapa o el análisis elemental de muestras grandes.
XRF con sistema de adaptador de muestras personalizado
Con la versatilidad para adaptarse a sus tipos de muestra específicos y necesidades de análisis, este espectrómetro WDXRF es adaptable a varios tamaños y formas de muestras utilizando adaptadores opcionales (a pedido). Con un punto de medición variable (30 mm a 0.5 mm de diámetro, con selección automática de 5 pasos) y capacidad de mapeo con mediciones multipunto para verificar la uniformidad de la muestra, este instrumento único y flexible puede optimizar drásticamente sus procesos de control de calidad.
XRF con cámara disponible e iluminación especial
La cámara opcional en tiempo real permite ver el área de análisis dentro del software. El operador tiene total certeza de lo que se está midiendo.
Capacidades analíticas tradicionales de WDXRF
Todas las capacidades analíticas de un instrumento tradicional se conservan en esta variante de "muestra grande". Analice de berilio (Be) a uranio (U) con la espectroscopía WDXRF de alta resolución y precisión, desde sólidos hasta líquidos y de polvos a películas delgadas. Analice amplios rangos de composición (ppm a decenas de por ciento) y espesores (sub Å a mm). Opcionalmente está disponible el rechazo de interferencia de pico de difracción, para obtener resultados óptimos para sustratos de monocristal. El espectrómetro de fluorescencia de rayos X dispersivo de longitud de onda (WD-XRF), el Rigaku ZSX Primus 400, cumple con los estándares industriales SEMI y CE.
Aplicaciones del ZSX Primus 400
- Composición del objetivo de pulverización.
- Películas de aislamiento: SiO₂, BPSG, PSG, AsSG, Si₃N₄, SiOF, SiON, etc.
- Películas de alta k y ferrodieléctricas: PZT, BST, SBT, Ta₂O₅, HfSiOₓ.
- Películas de metal: Al-Cu-Si, W, TiW, Co, TiN, TaN, Ta-Al, Ir, Pt, Ru, Au, Ni, etc.
- Películas de electrodos: dopado poli-Si (dopante: B, N, O, P, As), amorfo-Si, WSiₓ, Pt, etc.
- Otras películas dopadas (As, P), gas inerte atrapado (Ne, Ar, Kr, etc.), C (DLC)
- Películas delgadas ferroeléctricas, FRAM, MRAM, GMR, TMR; PCM, GST, GeTe.
- Composición de la protuberancia de la soldadura: SnAg, SnAgCuNi.
- MEMS: espesor y composición de ZnO, AlN, PZT.
- Proceso del dispositivo SAW: espesor y composición de AlN, ZnO, ZnS, SiO₂ (película piezoeléctrica); Al, AlCu, AlSc, AlTi (película de electrodo)
Accesorios ZSX Primus 400
- La cámara de muestra con iluminación especial permite ver el punto de análisis en la pantalla.
- El rechazo de interferencia por difracción proporciona resultados precisos para sustratos de monocristal.
- Software de parámetros fundamentales para el análisis de película delgada.
