Análisis de reflectividad de rayos X de película (lámina) de estaño óxido de indio en cristal

Análisis de reflectividad de rayos-X de película (lámina) de estaño óxido de indio en cristal.

El estaño óxido de indio (ITO) es una solución sólida de óxido de indio (In₂O₃) y estaño óxido (SnO₂). Debido a su alta conductividad eléctrica y transparencia óptica, el ITO es usado para hacer cubiertas conductivas transparentes de pantallas de cristal y paneles duros. La calidad de las láminas de ITO depositadas es un factor clave que determina sus propiedades ópticas y eléctricas.

La reflectividad de rayos X (RRX o XRR) es un método analítico no-destructivo para la caracterización de materiales de lámina delgada. En particular, la XRR mide la densidad, grosos, y aspereza de la lamina al mismo tiempo. En la figura 1 a continuación, se presenta el perfil XRR en una lámina ITO depositada en un substrato de cristal. Nominalmente, esta es una lámina mono-capa con un grosor de 20nm. Al aplicar la Transformada Rápida de Fourier (FFT) al perfil medido, el grosor de la lámina puede ser estimado. Los resultados se presentan en la Figura 2, la cual sugiere que hay dos capas con densidades diferentes y grosores de alrededor de 4.2nm y 14.9nm en la muestra.

Datos recopilados usando el sistema Rigaku de difracción multipropósito, Ultima IV.