
The benefits of WDXRF, light element sensitivity and high spectral resolution, in a benchtop instrument. The Supermini200 is about ½ the price and ¼ the size of conventional WDXRF systems.
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La presente nota de aplicación demuestra las capacidades del analizador EDXRF NEX CG de Rigaku para las mediciones del grosor de películas (láminas) (Tox) aplicadas a obleas de semiconductor. Calibraciones empericas en 2-puntos simples son usadas en películas de mono-capa de SiO2, AlSi, Ti, TiN, Pt, AlCu, y BPSG en substratos de silicio para usos de Control de Calidad (QC) en la industria de semiconductores.
Antecedentes
El control del proceso de fabricación de semiconductores es fundamental. Tolerancias estrechas dejan poco margen para el error en el procesamiento de los materiales semiconductores. Espesor de película e integridades de concentración son vitales para el rendimiento óptimo del dispositivo. El procesamiento del semiconductor implica la deposición secuencial de capas múltiples para completar el dispositivo. Los errores durante la construcción de estos dispositivos pueden llevar a efectos no deseados en el procesamiento a futuro, y producir fallas o degradación del dispositivo.
Rigaku NEX CG entrega una determinación cualitativa y cuantitativa rápida de los elementos atómicos mayores y menores en una gran variedad de tipos de muestras con normas mínimas. A diferencia de los analizadores convencionales EDXRF, el NEX CG fue diseñado con una geometría única de acoplamiento cartesiano (CG) del núcleo o kernel óptico que aumenta dramáticamente la relación señal-ruido. Read more about NEX CG...