半导体计量产品

TXRF工具

  TXRF-V310
通过TXRF结合VPD性能进行超微量元素表面污染计量;大至300mm晶圆
    TXRF-310
通过TXRF进行微量元素表面污染计量;大至300mm晶圆
    TXRF 3760
通过TXRF进行微量元素表面污染计量;大至200mm晶圆
 
  TXRF 3800e
通过TXRF进行微量元素表面污染计量;大至200mm晶圆
 

XRF tools   


  WaferX 310
并列同时WDXRF光谱仪用于晶圆金属薄膜计量;大至300mm晶圆
    WDA-3650
同时WDXRF光谱仪用于晶圆金属薄膜计量;大至200mm晶圆
    ZSX 400
顺序WDXRF光谱仪用于大和/或重样品的元素分析和薄膜计量

Combo tools   


  MFM310
用于图案晶圆的过程XRR、XRF和XRD计量工具;大至300mm晶圆
 

理学是在设计和制造基于X射线的测量工具来解决半导体制造难题的先驱和世界领导者。在半导体工业中拥有超过25年的全球市场的领导地位,我们的产品实现了从晶圆厂过程控制计量到研发薄膜和材料表征。理学专业生产XRF、XRD和XRR计量工具,用于薄膜等关键工艺参数测量:厚度、组成、粗糙度、密度、孔隙和晶体结构。此外,我们提供用于污染测量的过程TXRF和VPD-TXRF工具。通过永久的服务和支持,理学提供提高产量和过程改善的前沿解决方案。