薄膜的X射线衍射率分析

X射线反射率分析是一种在非破坏性分析的形式下唯一可以测量薄膜样品表面和界面粗糙度、厚度和密度的技术。理学的SmartLab®衍射仪使X射线反射率测量成为非常简单的任务。根据样品信息，样品被自动精确调整，并且测量条件也被自动优化。所有用户只需输入一个大致的密度范围和样品尺寸，Guidance™软件包将处理其余的项目。

下图是对硅基板上的一个WCN合金薄膜进行X射线衍射率曲线测量。可以清晰地观察到由于X射线光束干扰造成的等厚条纹反映在自由表面和薄膜基板界面。通过理学的GIXRR反射率软件，将该实验曲线与模型结构进行拟合。从显示在表格中的拟合结果来看，似乎在薄膜和基板之间的界面发生了反应，导致一个低密度界面层。相比大部分表面拥有更低的W值。看可以看出随着薄膜不断生长，薄膜粗糙度也不断增加。