AZX 400
Características
- Análisis de muestras grandes
- Hasta 400 mm (diámetro)
- Hasta 50 mm (espesor)
- Hasta 50 mm (espesor)
- Sistema adaptador de la muestra
- Adaptable a varios tamaños de muestras.
- Punto de medición
- 30 mm a 0.5 mm de diámetro
- Selección automática de 5 pasos
- Capacidad de mapeo
- Permite mediciones multipunto
- Cámara para observar la muestra (opcional))
- Propósitos generales
- Análisis de Be - U
- Rango elemental: ppm a %
- Rango de espesor: sub Å a mm
- Rechazo de interferencia por difracción (opción)
- Resultados precisos para sustratos monocristalinos
- Cumplimiento de los estándares de la industria
- Marcado SEMI, CE
- No ocupa espacio
- 50% del tamaño del modelo anterior
Espectrómetro XRF dispersivo de longitud de onda secuencial para muestras grandes
Mediciones del espesor y la composición de la película en muestras grandes y pesadas, obleas y discos de medios
Especificaciones
Nombre del producto | AZX 400 |
Técnica | Fluorescencia de rayos X (XRF) |
Ventajas | Flexibility to measure a variety of sample types, including 50 - 300 mm wafers, coupons, and sputtering targets (up to 30 kg) |
Tecnología | Analytical flexibility to measure elements from Be to U, well-suited for process R&D and low-volume, high product mix environments |
Atributos principales | 4 kW sealed X-ray tube, Sequential type goniometer, Primary beam filter; Measurement spot sizes 30, 20, 10, 1, and 0.5 mm (diameter) |
Opciones principales | Wafer Loader, SQX (Scan Quant. X) software, CCD Camera |
Computadora | External PC, MS Windows® OS, Software: film thickness/concentration simultaneous analysis software, Fundamental Parameter software for thin film analyses |
Dimensiones principales | 1376 (ancho) x 1439 (alto) x 890 (profundo) mm |
Cuerpo | Aprox. 800 kg (unidad central |
Requerimientos de energía | 3Ø, 200 VCA 50/60 Hz, 8 kW. |